2004.05.04
※ 설립근거 : 나노기술개발촉진법 (제 11조)
나노종합기술원 기관 소개
설립일자
설립목적
시설·장비의 공동활용을 통한 연구개발지원,
연구성과의 실용화 및 중소벤처기업의 창업지원
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주요기능
- 산·학·연 나노기술관련 연구개발 시설 장비의 공동·활용 지원
- 나노융합 신산업 창출을 위한 공정·응용 연구개발 지원
- 첨단 장비 및 시설을 활용한 전문인력 양성
- 연구성과 실용화 및 중소기업 창업지원
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대표적 연구개발 지원성과
- 세계 최소형 3nm급 FinFET(나노전자소자) 공동개발('06. 3)
- 차세대 퓨전메모리(U-RAM) 공동개발('08. 7)
- 세계 최초 3D IC 상용화 기술 공동개발('08. 8)
- 세계 최초 20nm 갭 집적식 나노소자 공동개발('09. 12)
- 50nm급 분광센서 공동개발('10. 12)
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Platform Technology
- CMOS Platform : 0.18um SOI RF
- MEMS Platform : Sa-FPA
(Semi-active Focal Plane Array) - More than Moore Platform : HSoS
(Heterogeneous Systems On Silicon) - NBIT Platform : u-TAS(Micro-Total Analysis System)
Facilities
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Clean room5,067㎡(2 stories)
- Class 1 : 605㎡
- Class 100 : 1,355㎡
- Class 10,000 : 1,015㎡
- Others : 2,092㎡
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Central Utility6,433㎡(9 stories and 1 underground)
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Office4,620㎡(4 stories and 1 underground)
Main Service Fields
Infrastructure
Cleanroom for
Nano-Device
Nano-Device
E-BEAM, KrF Scanner + etc (Total 50 equipments)
Cleanroom for
NEMS/MEMS-Sensor
NEMS/MEMS-Sensor
Deep Si Etch, Wafer Bonder + etc (Total 55 equipments)
Department of
Nanomaterials
Nanomaterials
Nano Cluster & Generator, Graphene CVD + etc (Total 9 equipments)
Department of
Nano-Bio
Nano-Bio
SPR, Confocal Microscope + etc (Total 11 equipments)
Department of
Measurement and Analysis
Measurement and Analysis
Cs-corrected STEM, SIMS + etc (Total 41 equipments)