기술적 특징
패턴의 크기대비 상대적으로 극박막의 물질들을 사용할 뿐만아니라, 투명전극, Metal전극의 광학적 특성들을 Display에 맞도록 신규공정을 개발 해야하는 특징이 있음. 따라서, 반도체의 전기적 특성과 디스플레이의 광학적 특성을 동시에 만족시켜야만 하는 매우 난이도가 높은 기술.
例 PDL(Pixel Defined Layer)의 구조 형성 및 공정기술개발의 중요성 : PDL(Pixel Define Layer)이란 OLED 패널에서 유기물 발광 층(EML)의 각 서브픽셀(Sub_pixel)이 서로 간섭하지 않도록 구분해 주는 역할을 하는 층(Layer)이다 (그림 참조). OLED 패널은 Red, Green, Blue 색을 내는 유기 발광물질을 이용해 색상을 표현하는 각각의 RGB 서브픽셀은 Evaporation 공정을 거쳐 만들어진다. PDL은 유기 발광 물질 증착이 이루어지기 전에 각 서브픽셀의 증착 영역 이외의 부분에 성막 된다.
4500ppi급, 저전압동작, 고휘도의 Micro OLED개발에 필요한 단위공정 및 Photo Array 개발 및 완료 경험
패널용 요소기술 개발 및 완료 경험
Micro OLEDOS 개발에 특화된 전극(투명 전극 포함)특성 확보
Photo Defined Layer 개발 및 완료 경험
Color Filter용 PR 개발 및 완료 경험
μ-LED용 R & D 및 완료 경험
μ-OLEDOS on ROIC 웨이퍼
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